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文章

多晶金属的对比度增强-SEM的样品制备

徕卡EM RES102应用笔记-材料研究

目的
离子铣削是化学蚀刻的理想选择,特别是对于铜等多晶金属而言。离子铣削可用于增加晶粒结构及其界面的对比度。与化学蚀刻相反,铣削过程清洁,安全且易于操作。离子能和研磨时间取决于金属的研磨速率。

工艺参数

加速电压:2 kV
喷枪电流:1.5 mA
铣削角度:50°
铣削时间:3 min


结果
铜的铣削速率很高,因此在短短的铣削时间(仅3分钟)后即可清晰看到晶粒结构。

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主题 & 标签

离子束斜切后的铜表面