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抽象

溶剂浸渍压印光刻

高性能的半自动化程序

我们在最近的有关溶剂浸渍压印光刻(SIIL)的基本报告的基础上进行扩展,并描述了用于聚合物微流体和光流体原型设计的半自动化和高性能程序。 SIIL程序通过具有成本效益(约200美元)且易于组装的设备将人工干预减至最少。我们专门针对聚(甲基丙烯酸甲酯)微系统分析了该程序的性能,并报告了可重复的聚合物压印,键合和3D功能化,在不到5分钟的时间内即可完成,最低可达8分钟 μm分辨率和1:1纵横比。与商业方法相比,改进的SIIL程序可大幅降低成本,压印力要求降低100倍,粘合强度提高10倍以上。我们将这些优势归因于定向聚合物溶解,该溶解严格地位于SIIL唯一提供的聚合物-溶剂界面上。所描述的过程为新的桌面原型开发机会提供了机会,特别是对于执行活细胞成像,流通催化和芯片上气体检测的非专家用户而言。

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Nemati SH,DA Liyu DA,Canul AJ& Vasdekis AE:

溶剂浸渍压印光刻:高性能,半自动程序